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      硅片清洗機的概念及工作原理

      發布時間:2023-05-24 作者:魯超超聲 點擊:800次

      硅片清洗機是一種專門用于清洗硅片或其他半導體材料的設備。它具有高效、自動化、可靠性高等特點,廣泛應用于半導體制造業、LED制造業等領域。


      硅片清洗機通常采用物理清洗和化學清洗兩種方式對硅片進行深度清潔。物理清洗主要是通過高功率超聲波波浪進行清洗,可以有效去除硅片表面附著的灰塵、油污和殘留物;而化學清洗則采用化學試劑,通過浸泡法或者噴淋法對硅片進行表面處理,去除無機物和有機污漬,以達到清潔的目的。硅片清洗機還可以使用去離子水沖洗,并在清洗后使用干燥系統將其干燥,以避免二次污染。


      在清洗前,硅片需要先放入載架中,然后通過計算機或者微控制器進行選擇性操作和控制,使得硅片能夠被逐一清洗。同時硅片清洗機還配備了預處理系統和在線監測系統,方便操作人員實時了解清洗質量和清洗過程中的參數情況。


      總的來說,硅片清洗機是半導體制造過程中必要的一環,確保半導體生產的質量可靠和一致。除了提高生產效率和減少生產成本外,它還可以大幅度降低制造過程中的風險和減輕環境污染。


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